12月15日,ASML' target='_blank' style='text-decoration: none;'>ASML首席执行官ChristopheFouquet(克里斯托夫·富凯/傅恪礼)在公司总部接受彭博社专访时重磅表态,预计HighNAEUV光刻机将在2027~2028年正式投入先进制程的大规模量产。这一消息直接为2纳米及以下制程的落地进程划定关键节点,成为全球半导体产业链关注的焦点。HighNAEUV光刻机是突破芯片性能瓶颈的核心设备,其量产节奏决定“埃米时代”芯片普及速度。相较于现